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Technologien für die 10 Angstrom Lithographie in der Chip-Produktion
Mikroelektronik ist eine Schlüsseltechnologie der Digitalisierung. Ihre Beherrschung ist entscheidend für die technologische Souveränität Europas. In der europäischen Partnerschaft KDT fördert die EU gemeinsam mit Mitgliedstaaten innovative Forschungsvorhaben und Pilotlinien in der Mikroelektronik. Deutsche Schwerpunkte liegen dabei auf multifunktionalen Elektroniksystemen, energiesparender Leistungselektronik, Design komplexer Systeme sowie Produktionstechnologien.
In dem Projekt 10ACe sollen innovative Lösungen in den Bereichen Design, EUV-Lithographie, Prozesstechnologie und Metrologie für den zukünftigen 10 Ångstrom Technologieknoten entwickelt werden. Dies soll die Herstellung leistungsstärkster CMOS-Chips ermöglichen. In enger Zusammenarbeit zwischen Industrie, Forschungsinstituten und Universitäten wird angestrebt, die Funktionalität und Leistungsfähigkeit der EUV-Belichter in Bezug auf Auflösung und Ausbeute zu steigern. Ein zentrales Ziel der deutschen Partner ist die Verbesserung des ökologischen Fußabdruckes und der Wirtschaftlichkeit der CMOS-Herstellung. Hierfür sind Entwicklungen zur Wiederaufbereitung von Modulen des EUV-Belichters und die Untersuchung umweltfreundlicher Materialalternativen geplant. Ein weiterer Schwerpunkt der Arbeiten der europäischen Partner liegt in der Technologieentwicklung neuartiger CFET-Transistoren.
Die geplanten Innovationen umfassen u. a. die Einführung von aktiven Waferklemmen zur Höhenkorrektur, Implementierung von PFAS-freien Materialien, Entwicklung von monolithischen CFET-Bauteilen und leistungsstarken Charakterisierungsmethoden. Diese technologischen Fortschritte ermöglichen die Fertigung extrem kleiner Strukturbreiten. Die neuen Technologien bieten die Perspektive, Mikrochips mit verbesserter Energieeffizienz und gesteigerter Leistungsfähigkeit herzustellen.