Neuartige Regelungselektronik für innovative Prozesstech-nologien der Halbleitertechnik
KMU bilden eine tragende Säule der deutschen Wirtschaft. Sie sind oft hochspezialisiert, wichtige Partner in Innovations- und Wertschöpfungsketten und Treiber des technischen Fortschritts. KMU-getriebene Innovationen im Bereich der Elektroniksysteme tragen dazu bei, dass Deutschland seine Wettbewerbsfähigkeit als Produktions- und Entwicklungsstandort in den Anwenderbranchen elektronischer Systeme stärkt.
Im Vorhaben sollen neuartige Hochfrequenz-Anpassungsnetzwerke entwickelt werden, die integrale und funktionell notwendige Bestandteile von Plasmabeschichtungs- und -bearbeitungsanlagen sind. Diese Anlagen finden vor allem bei der Halbleiterherstellung Anwendung und ermöglichen hier effiziente Fertigungstechnologien. Modernste Leistungshalbleiter auf Basis von Galliumnitrid (GaN)- und Siliziumkarbid (SiC)- Materialien, kombiniert mit fortschrittlicher elektronischer Schaltungstechnik, sollen im Vorhaben bisher notwendige mechanische Steuerelemente ersetzen. Mit Hilfe der neuen, rein elektronisch gesteuerten Netzwerke können die Plasmaanlagen zukünftig eine präzisere Prozessführung gewährleisten, was neben einer höheren Regelungsgeschwindigkeit auch eine verbesserte Reproduzierbarkeit der Fertigungsprozesse bedeutet.
Das neue, vollständig elektronisch mit modernsten Leistungshalbleitern gesteuerte Anpassungsnetzwerk wird die Produktqualität insbesondere bei kritischen Beschichtungs- und Ätzprozessen verbessern und dadurch innovative Produkte mit immer kleineren Strukturen und speziellen Eigenschaften ermöglichen. So rücken auch neue Dünnschichtverfahren in den Fokus, die sich mit existierenden Lösungen nicht umsetzen ließen.